Particle-PLUS 事例集

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プラズマ解析ソフトウェアParticle-PLUSでは、 プラズマプロセスのいろいろなモデルに対して解析実績がございます。 ここでは解析例のいくつかを紹介いたします。 各モデルをクリックすると解析サンプルの詳細もご覧になれますのでご参照ください。

スパッタリング - マグネトロンスパッタSputtering - Magnetron sputtering

磁場解析機能を使ってマグネトロンスパッタのシミュレーションが可能です。 スパッタ粒子の放出量、エネルギー、射出角度といった基本的な量の解析に加え、 スパッタ粒子の吸着分布やマグネトロンスパッタによる成膜速度、 膜の均一性といった量の評価が可能です。

容量結合プラズマ(CCP)Capacitivery Coupled Plasma (CCP)

Particle-PLUSではマッチング回路を考慮に入れてプラズマ解析することができます。 これにより、より現実的なモデルでのシミュレーションが可能となります。

プラズマCVDChemical Vapor Deposition (CVD) - CVD

プラズマの挙動と合わせて求められるラジカルや励起種の生成分布と中性ガスモジュールを組み合わせることで、 それらの中性粒子の挙動を計算することができます。 これにより、Particle-PLUSではプラズマCVDのシミュレーションが可能となっております。

誘導結合プラズマ(ICP)Inductively Coupled Plasma (ICP)

CCPで重要となる誘電加熱のほかに、誘導加熱を考慮することでコイルを用いたICPモデルのシミュレーションが可能です。

ICPモデル中のプラズマ発生

その他Others

Particle-PLUSでは他にも以下のような解析実績があります。