[an error occurred while processing this directive]ギャラリー
高速汎用プラズマ解析ソフトウェアVizGlow
ギャラリー
単純な反応器中のCCP
ガス種 Ar、 圧力 50 mTorr、 周波数 100.0 MHz
一般的な反応器中のCCP
ガス種 Ar、 圧力 50 mTorr、 周波数 100.0 MHz
流れを伴う低圧反応器中のCCP
ガス種 CF4、 圧力 20 mTorr、 周波数 100.0 MHz
流れを伴う低圧反応器中のCCP
ガス種 CF4、 圧力 20 mTorr、 周波数 100.0 MHzA
高圧反応器中のCCP
ガス種 Ar、 圧力 1 Torr、 周波数 13.56 MHz
高圧反応器中のCCP
ガス種 Ar、 圧力 1 Torr、 周波数 13.56 MHz
大気中のストリーマ
ガス種 Air 、 圧力 760Torr、 電圧 10000 V
ドーム型反応器中のICP
ガス種 Ar、 圧力 5 mTorr、 周波数 0.46 MHz、 電力 2000 W
流れを伴うICP
ガス種 Ar、圧力13.3Pa、 周波数 13.56 MHz、 電力 300 W、 流量 100 sccm
流れを伴うICP
ガス種 Ar、 圧力13.3Pa、 周波数 13.56 MHz、 電力 300 W、 流量 100 sccm
バイアスを伴った自己無撞着ICP
ガス種 Ar、 圧力 50 mTorr、 周波数 13.56 MHz、 バイアス -100 V、 電力 1000 W
一般的な反応器中のマイクロ波プラズマ
ガス種 Ar、 圧力 97.5 mTorr、 周波数 2.45 GHz、 電力 1000 W
DCマグネトロンプラズマ
ガス種 Ar、 圧力 50 mTorr
DCマグネトロンプラズマ
ガス種 Ar、 圧力 50 mTorr
DCマグネトロンプラズマ
ガス種 Ar、 圧力 50 mTorr
L字導波管中の電磁波
周波数 1.50 GHz、 内部の比誘電率 1.0、 電磁波の成分 TM
お問合せは 
まで